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  제5회 반도체 공정진단 워크숍 개최
  글쓴이 : 관리자     날짜 : 11-10-05 16:21     조회 : 9418    
   http://www.newsis.com/ar_detail/view.html?ar_id=NISX20110822_000903562… (3836)
   http://www.daejonilbo.com/news/newsitem.asp?pk_no=967291# (2701)
□ KRISS(한국표준과학연구원, 원장 김명수)가 8월 23일(화) 오전 9시 반부터 본원 기술지원동에서 반도체 공정 진단 기술의 미래상을 제시하는 `제5회 반도체 공정진단 워크숍'을 개최한다.

□ 극미세 패턴화 되고 있는 반도체 산업에서 경쟁력을 확보하기 위해서는 반도체 제조에 대한 실시간 진단 및 제어기술개발을 통해 생산시간을 단축하고, 수율향상을 이루어내는 것이 중요하다.

□ 이를 위해 이번 워크숍에서는 반도체 디스플레이 생산공정에 대한 모니터링, 분석, 제어, 관리 등을 위한 플라즈마 공정진단과 화학증착장비(CVD)ㆍ원자층증착장비(ALD) 공정진단, 오염원 및 펌프진단, 관련 데이터처리 개발 현황 등에 대해 집중적으로 논의한다. 특히, 이번 워크숍에서는 지식경제부 전략기술개발사업(연구책임자 : KRISS 신용현 박사)으로 개발한 플라즈마, 오염입자, 기체진단 장치 등을 함께 전시할 예정이다.

□ 진공기술센터 신용현 박사는 "우리나라는 반도체 공정기술에 있어 세계 최고 수준이지만 반도체 공정을 실시간으로 모니터링하고 분석하는 진단기술은 취약한 실정"이라며 "앞으로 워크숍을 지속적으로 실시해 반도체뿐만 아니라 디스플레이, 에너지 분야 등으로 적용범위를 넓혀 산업체 각 분야의 경쟁력을 높이는데 기여할 것"이라고 말했다.


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