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  반도체 공정진단 전문가 한자리 모인다 (EBN 산업뉴스 2008.6.23)
  글쓴이 : 관리자     날짜 : 08-06-24 02:05     조회 : 11155    
   http://www.ebn.co.kr/news/n_view.html?id=337586 (3157)
반도체 공정진단 전문가 한자리 모인다
 
KRISS, 세계 석학 초청 세미나 및 워크숍 개최
 
2008-06-23 09:19:12 
 
한국표준과학연구원(KRISS)은 오는 24일 오전 10시부터 연구원 행정동에서 ´제2회 반도체공정진단 워크숍´을 개최한다고 23일 밝혔다.

연구원에 따르면 이번 행사는 차세대 반도체 기술의 핵심이 되는 ´실시간 공정 모니터링 분석 진단기술 개발´을 주제로 국내외 전문가들이 참가, 플라즈마 공정진단, 오염원 및 펌프진단, 관련 데이터처리 개발 현황 등에 대해 논의할 예정이다.

특히 이날 워크숍에서는 카네기멜론대 스트로지바스 교수의 ´공정과 수율 상관관계의 총체적 모델링´, 스트라툼사 마커스 캐버리 기술총괄팀장의 ´RF센서를 이용한 실시간 박막공정진단´에 대한 특별초청 세미나도 마련된다.

이어 서울대 김곤호 교수의 ´전기신호를 이용한 공정 플라즈마 진단 기술 개발 현황´, KRISS 강상우 박사의 ´CVD 공정진단 및 오염도평가 연구´, 삼성전자 이헌정 수석의 ´반도체 설비 Catacterization and Contol´ 등의 발표가 있을 예정이다.

이외에도 다수의 산학연 전문가들이 참여하는 포스터발표 및 장비전시회가 함께 열려 국내 최대 규모의 반도체공정진단기술 축제가 될 전망이다.

신용현 KRISS 전략기술연구본부장은 "작년에 처음 열린 반도체 공정진단 워크숍에서는 국내전문가들이 한자리에 모여 그 중요성을 공유한 것에 의미가 있었다면, 올해부터는 현장에서 필요로 하는 반도체 기술이나 장비 국산화에 초점을 맞춰 실질적인 산학연 협력이 이뤄질 수 있도록 할 것"이라고 말했다.


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